技術規(guī)格：

本系統由進樣室、硫化/硒化室、兩個濺射室（3靶位+4靶位）、濺射控制系統、加熱系統、真空測量系統、泵抽系統、樣品傳輸控制系統、氣氛控制系統、水循環(huán)制冷系統、完成樣品制備過程電控系統及電腦/觸摸屏程序控制系統等組成；

系統配置可在真空環(huán)境條件下移動樣品的機械手臂，實現樣品在腔體之間的移動,樣品在腔室之間傳遞動作完成后15分鐘內相關腔室真空度恢復到樣品傳遞之前的水平；

兩濺射室可分別實現3靶位和4靶位的靶材共濺射，相互之間電源等系統無相互干擾，各靶材單獨濺射不受其他靶材的影響，且不污染其它靶材；

系統具有完善的自動保護功能,其中硒化/硫化爐的抽氣入口具有防蒸汽侵蝕保護措施；

各室結構材料均采用上等不銹鋼材料，氬弧焊接和表面拋光處理。