- 磁控濺射鍍膜儀
 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
 - 可編程勻膠機(jī)
 - 涂布機(jī)
 - 等離子清洗機(jī)
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 - 金剛石切割機(jī)
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 - 晶體生長(zhǎng)爐
 - 真空管式爐
 - 旋轉(zhuǎn)管式爐
 - PECVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 熱解噴涂
 - 提拉涂膜機(jī)
 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
 - 電子束,激光鍍膜儀
 - CVD氣相沉積系統(tǒng)
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 - 高溫真空爐
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 - 箱式氣氛爐
 - 高溫高壓爐
 - 石墨烯制備
 - 區(qū)域提純爐
 - 微波燒結(jié)爐
 - 粉末壓片機(jī)
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 - 真空熱壓機(jī)
 - 培育鉆石
 - 二硫化鉬制備
 - 高性能真空泵
 - 質(zhì)量流量計(jì)
 - 真空法蘭
 - 混料機(jī)設(shè)備
 - UV光固機(jī)
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
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 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
 - 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
 - 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
 - 其他產(chǎn)品
 
    
	主要技術(shù)指標(biāo)
1、箱體
1.1.尺寸:1200mm(長(zhǎng))×900mm(高)×1000mm(寬)
1.2.材質(zhì):全不銹鋼結(jié)構(gòu)﹝Type 304﹞, 厚度3mm
1.3.過(guò)濾器:孔徑3微米
1.4.手套:手套口8英寸,厚度0.4mm丁基〔butyl〕手套,硬鋁合金手套口(經(jīng)過(guò)防腐蝕處理,陽(yáng)極氧化鋁),口徑220mm。
1.5.窗口:傾斜設(shè)計(jì)的操作面,可拆卸的8mm**鋼化玻璃前窗,耐磨、抗腐蝕、透光性好、密封圈采用3/8英寸厚的OMEGA密封圈
1.6.使用時(shí)可保持一定的正負(fù)壓力(-10mbar~10mbar)
1.7.箱體配置有防反射的照明節(jié)能燈,光線柔和。
1.8.箱體內(nèi)設(shè)有陳列板雙層
1.9.箱體內(nèi)設(shè)有多孔電源接線板(電源:220V±10%  50Hz±10%)
2、過(guò)渡艙
2.1.形狀:圓柱形(304不銹鋼),與手套箱連接,采用閥門(mén)控制
2.2.尺寸:直徑360mm,長(zhǎng)600mm大過(guò)渡艙,活塞門(mén),過(guò)渡艙內(nèi)有可滑動(dòng)托盤(pán),拋光,自動(dòng)閥門(mén)控制抽氣和補(bǔ)氣。箱體另設(shè)置一小過(guò)渡艙,規(guī)格為:直徑150mm,長(zhǎng)300mm,手動(dòng) 閥門(mén)控制抽氣和補(bǔ)氣。
2.3.托盤(pán):不銹鋼300mm×450mm,可自由移動(dòng)延伸(大過(guò)度艙配置)
2.4.真空度≤1bar(大、小右過(guò)度艙均要求抽真空帶顯示)
3、控制系統(tǒng)
3.1.方式:包括自診斷、斷電自啟動(dòng)特性,具備壓力控制和自適應(yīng)功能。自動(dòng)控制、循環(huán)控制、密碼保護(hù)、真空室控制采用LCD顯示。單元控制采用西門(mén)子PLC觸摸屏。
3.2.壓力控制:控制箱體、過(guò)渡艙的壓力在某一設(shè)定值。
3.3.腳踏板:可控制手套箱的壓力、方便操作。
    
    
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            