- 磁控濺射鍍膜儀
 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
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 - 涂布機(jī)
 - 等離子清洗機(jī)
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 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
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 - 箱式氣氛爐
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 - 區(qū)域提純爐
 - 微波燒結(jié)爐
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 - 真空熱壓機(jī)
 - 培育鉆石
 - 二硫化鉬制備
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 - 真空法蘭
 - 混料機(jī)設(shè)備
 - UV光固機(jī)
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
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 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
 - 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
 - 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
 - 其他產(chǎn)品
 
    有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備用途:
有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀用于生長(zhǎng)薄膜太陽(yáng)能電池,EL OEL分子有機(jī)電致發(fā)光器件薄膜的研究工作。廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。
有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
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					 真空室  | 
				
					 二個(gè)D型真空室,尺寸均約為?450×H750mm; 兩個(gè)真空室的真空系統(tǒng)配置、極限壓力、恢復(fù)真空時(shí)間、熱阻蒸發(fā)舟及電源、膜厚監(jiān)測(cè)儀、真空室照明裝置、烘烤裝置、樣品臺(tái)的配置與技術(shù)參數(shù)指標(biāo)相同;  | 
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					 真空系統(tǒng)配置  | 
				
					 日本進(jìn)口低溫泵、無(wú)油渦旋干泵與電磁、復(fù)合數(shù)顯真空測(cè)量規(guī)與計(jì)、閥門(mén)等。  | 
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					 極限壓力  | 
				
					 ≤2.0×10-5Pa  | 
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					 恢復(fù)真空時(shí)間  | 
				
					 40分鐘可達(dá)到1×10-4Pa  | 
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					 電動(dòng)磁力耦合樣品傳遞裝置  | 
				
					 真空室1  | 
				
					 采用磁力耦合line motion傳遞裝置,采用步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng),設(shè)有遠(yuǎn)程手控控制盒,可控制直線前進(jìn)后退。  | 
			
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					 有機(jī)蒸發(fā)源及電源  | 
				
					 真空室1  | 
				
					 新型0EL升華型蒸發(fā)源9支,每支蒸料可裝10CC,室溫-800℃7支,室溫-1000℃2支;蒸發(fā)源電源4臺(tái)。  | 
			
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					 真空室2  | 
				
					 新型0EL升華型蒸發(fā)源6支,每支蒸料可裝10CC,室溫-800℃6支;蒸發(fā)源電源3臺(tái)。  | 
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					 熱阻蒸發(fā)舟及電源  | 
				
					 新型蒸發(fā)舟2組(熱阻蒸發(fā)舟); 數(shù)字式熱阻蒸發(fā)電源1臺(tái),帶有細(xì)調(diào)功能(0.1安培);鍍鋁專(zhuān)用盒式蒸發(fā)舟:2個(gè); 普通金屬蒸發(fā)舟10個(gè);蒸發(fā)源擋板2套;  | 
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					 膜厚監(jiān)測(cè)儀  | 
				
					 厚度分辨率  | 
				
					 不平均:0.0133埃/測(cè)量;50個(gè)樣品平均:0.002埃/測(cè)量  | 
			
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					 速率分辨率  | 
				
					 不平均:0.0133埃/秒;50個(gè)樣品平均:0.02埃/秒  | 
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					 精度  | 
				
					 0.03HZ/測(cè)量,2ppm  | 
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					 速度  | 
				
					 每秒測(cè)量十次  | 
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					 真空室照明裝置  | 
				
					 采用LED外照明方式.避免鍍膜污染照明燈  | 
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					 烘烤裝置  | 
				
					 在真空室外烘烤帶的烘烤方式  | 
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					 樣品臺(tái)  | 
				
					 樣品尺寸  | 
				
					 可放置一塊100×100mm或者50×50mm基片  | 
			
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					 運(yùn)動(dòng)方式  | 
				
					 可電動(dòng)上下升降,可旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速為0-30轉(zhuǎn)/分,轉(zhuǎn)速可調(diào)  | 
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