產(chǎn)品分類
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- 真空管式爐
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- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
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- 箱式氣氛爐
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- 區(qū)域提純爐
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- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
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- 混料機設備
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- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
全自動CVD滑軌爐系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；四路質子流量計能夠準確控制系統(tǒng)的供氣；全自動CVD滑軌爐真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。
詳情介紹：
全自動CVD滑軌爐設備操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。
適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火，尤其適合需要快速升降溫的CVD試驗。
全自動CVD滑軌爐技術參數(shù)：
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項目 |
明細 |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機功率 |
5KW |
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工作溫度 |
≤1100℃ |
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加熱速率 |
建議10℃/min |
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爐管尺寸 |
O.D.50mm-220mm-220mm（加熱區(qū)）-1200mm管長 |
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控溫精度 |
0.1℃ |
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溫區(qū) |
雙溫區(qū) |
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混氣系統(tǒng) |
4路質子流量計：100sccm1個；200sccm1個；500sccm2個 |
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真空泵 |
雙極旋片真空泵 |
