- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
紅外CO氣體分析儀應(yīng)用場(chǎng)合：
應(yīng)用于燃燒環(huán)境下產(chǎn)生的一氧化碳余量監(jiān)控。
1.友好人機(jī)對(duì)話菜單，操作直觀方便；
2.校準(zhǔn)間隔周期長、精度高、穩(wěn)定可靠；
3.對(duì)被測(cè)氣體具有很好的選擇性；
4.基于紅外吸收原理檢測(cè)部分無磨損，無需維護(hù)；
5.高精度的度自動(dòng)補(bǔ)償系統(tǒng)，消除環(huán)境溫度的影響；
6.分析儀自帶標(biāo)準(zhǔn)的 RS232（默認(rèn)）或 RS485 通訊口，可與計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)雙向通訊。
紅外CO氣體分析儀技術(shù)參數(shù)：|
測(cè)試原理 |
紅外原理 |
|
顯示方式 |
128×64 點(diǎn)陣 LCD |
|
測(cè)量范圍 |
0 ~ 1000ppm/10.00% CO |
|
測(cè)量精度 |
≤±1.2%FS |
|
重復(fù)性 |
≤±1% |
|
響應(yīng)時(shí)間 |
T 90 ≤60S |
|
模擬輸出 |
4-20mA.DC（非隔離輸出，負(fù)載電阻小于500歐姆） 0-10V.DC（非隔離輸出，負(fù)載電阻大于10K歐姆） 1路可編程干觸點(diǎn)型無源報(bào)警輸出，觸點(diǎn)*大容量220VAC/2A |
|
通訊方式 |
RS232（默認(rèn)）或 RS485 |
|
供電電源 |
AC170 ~ 264V 50/60Hz |
|
環(huán)境溫度 |
-10℃ ~ +40℃ |
|
環(huán)境濕度 |
＜80％RH |
|
采樣方式 |
通入式 |
|
樣氣溫度 |
0 ~ 50℃ |
|
樣氣流量 |
400 ~ 800ml/min |
|
樣氣壓力 |
0.05Mpa≤入口表壓≤0.35Mpa，穩(wěn)壓氣氛 |
|
規(guī)格尺寸 |
133mm×266mm×302mm（H×W×D） |
|
開孔尺寸 |
135mm×228mm（H×W） |
|
使用壽命 |
＞24 月（正常使用條件下） |
|
氣路接口 |
NPT 1/8 內(nèi)螺紋 |
|
安裝方式 |
嵌入式 |
