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 - 實驗室產品配件
 - 實驗室鍍膜耗材
 - 其他產品
 
    激光鍍膜設備用途:
激光鍍膜設備用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料,適用于生長高熔點、多元素及含有氣體元素的復雜層狀超晶格薄膜材料。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。
激光鍍膜設備技術參數:
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					 主真空室  | 
				
					 球型結構,尺寸? 450mm  | 
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					 進樣室  | 
				
					 圓筒型立式結構,尺寸? 150x 150mm  | 
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					 真空系統(tǒng)配置  | 
				
					 主真空室  | 
				
					 分子泵與機械泵,閥門  | 
			
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					 進樣室  | 
				
					 分子泵與機械泵(與主真空室共用),閥門  | 
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					 極限壓力  | 
				
					 主真空室  | 
				
					 ≦6*10-6Pa(經烘烤除氣后)  | 
			
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					 進樣室  | 
				
					 ≦6*10-3Pa(經烘烤除氣后)  | 
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					 恢復真空時間  | 
				
					 主真空室  | 
				
					 20分鐘可達到5*10-3Pa(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣)  | 
			
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					 進樣室  | 
				
					 20分鐘可達到5*10-3Pa(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣)  | 
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					 旋轉靶臺  | 
				
					 靶材*大尺寸約60mm;可一次安裝4塊靶材,可實現公轉換靶;每塊靶材可自轉,轉速5~60轉/分 
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					 基片加熱臺  | 
				
					 樣品尺寸  | 
				
					 ?51  | 
			
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					 運動方式  | 
				
					 基片可連續(xù)回轉,轉速5~60轉/分  | 
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					 加熱溫度  | 
				
					 基片加熱zui高溫度800C±1 C,可控可調  | 
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					 氣路系統(tǒng)  | 
				
					 質量流量控制器1路,充氣閥1路  | 
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					 可選部件  | 
				
					 激光器裝置  | 
				
					 配相干201激光器  | 
			
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					 激光束掃描裝置  | 
				
					 二維掃描機械平臺,執(zhí)行兩自由度掃描  | 
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					 計算機控制系統(tǒng)  | 
				
					 控制的內容主要有公轉換靶,靶自轉,樣品自轉、樣品控溫、激光束掃描等  | 
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					 設備占地面積  | 
				
					 主機  | 
				
					 1800 * 1800mm2  | 
			
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					 電控柜  | 
				
					 700 *700mm2(1個) 
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