- 磁控濺射鍍膜儀
 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
 - 可編程勻膠機
 - 涂布機
 - 等離子清洗機
 - 放電等離子燒結爐
 - 靜電紡絲
 - 金剛石切割機
 - 快速退火爐
 - 晶體生長爐
 - 真空管式爐
 - 旋轉管式爐
 - PECVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 熱解噴涂
 - 提拉涂膜機
 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
 - 電子束,激光鍍膜儀
 - CVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 立式管式爐
 - 1200管式爐
 - 高溫真空爐
 - 氧化鋯燒結爐
 - 高溫箱式爐
 - 箱式氣氛爐
 - 高溫高壓爐
 - 石墨烯制備
 - 區(qū)域提純爐
 - 微波燒結爐
 - 粉末壓片機
 - 真空手套箱
 - 真空熱壓機
 - 培育鉆石
 - 二硫化鉬制備
 - 高性能真空泵
 - 質量流量計
 - 真空法蘭
 - 混料機設備
 - UV光固機
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
 - 電池制備
 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗設備
 - 實驗室產品配件
 - 實驗室鍍膜耗材
 - 其他產品
 
    
	8.5"實驗室等離子清洗機配有一個直連式雙旋真空泵,可對腔體進行抽真空,同時通入氬氣等保護氣體,適用于對易氧化的物品的清洗。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物,同時也可改變物體表面的性質(如親水和疏水性等),對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。在單晶材料外延薄膜生長以前對其進行預處理,將對生長具有顯著的作用。
 
8.5"實驗室等離子清洗機技術參數:
| 
					 輸入功率  | 
				
					 ? AC 220V , 50/60 Hz, ? 射頻功率:80 W Max.(標準) ? 真空泵:正常550W,啟動750W ? 總功率:830W max. ? 工作電流≤3A  | 
			
| 
					 射頻功率  | 
				
					 ? 射頻功率可在0-80W范圍內調節(jié) ? 射頻:13,56 MH ? 可選:可根據要求提供300 W射頻電源,需額外收費  | 
			
| 
					 等離子室  | 
				
					 ? 8.5" O.D×8.2" I.D×14" L高純度石英室 ? 體積: 12 L ? 鉸鏈式前法蘭由鋁制成 ? 2.3”直徑(60mm)石英窗口,便于觀察 ? 完全屏蔽RF輻射,零RF泄漏  | 
			
| 
					 控制面板  | 
				
					 ? 6”彩色觸摸屏,可自動控制所有參數,用于等離子清潔,如真空度,氣體流速,RF功率水平和清潔時間。 ? 內置一個通道質量流量計(0-500ml /分鐘),控制氣體流量+/- 0.5 ml / m  | 
			
| 
					 真空泵和閥門  | 
				
					 ? 包含排氣過濾器,KF25D適配器和夾具的240 L / m重型旋片式真空泵可立即使用 ? *終總壓力為50 mTorr  | 
			
| 
					 惰性氣體  | 
				
					 ? 可以選擇許多惰性氣體進行等離子體清潔,如N2,Ar,空氣和混合氣體,取決于將要處理的材料類型。(不包括在包裝內) ? 等離子清潔器不得使用易燃氣體  | 
			
| 
					 總體尺寸  | 
				
					 620 L×600 W×600 H, mm  | 
			
| 
					 保證  | 
				
					 一年有限保修,終身支持(耐熱玻璃室無保修)  | 
			
    
    
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            