產(chǎn)品分類
    - 磁控濺射鍍膜儀
 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
 - 可編程勻膠機
 - 涂布機
 - 等離子清洗機
 - 放電等離子燒結(jié)爐
 - 靜電紡絲
 - 金剛石切割機
 - 快速退火爐
 - 晶體生長爐
 - 真空管式爐
 - 旋轉(zhuǎn)管式爐
 - PECVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 熱解噴涂
 - 提拉涂膜機
 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
 - 電子束,激光鍍膜儀
 - CVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 立式管式爐
 - 1200管式爐
 - 高溫真空爐
 - 氧化鋯燒結(jié)爐
 - 高溫箱式爐
 - 箱式氣氛爐
 - 高溫高壓爐
 - 石墨烯制備
 - 區(qū)域提純爐
 - 微波燒結(jié)爐
 - 粉末壓片機
 - 真空手套箱
 - 真空熱壓機
 - 培育鉆石
 - 二硫化鉬制備
 - 高性能真空泵
 - 質(zhì)量流量計
 - 真空法蘭
 - 混料機設(shè)備
 - UV光固機
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
 - 電池制備
 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
 - 實驗室產(chǎn)品配件
 - 實驗室鍍膜耗材
 - 其他產(chǎn)品
 
    
                            產(chǎn)品詳情
                        
                        
            簡單介紹:
        
        
            石墨烯制備爐的溫度、氣流及真空采用計算機控制,其中部分功能也可以采用手動控制。計算機實時控制和顯示所有與生長有關(guān)的實驗參數(shù),自動保存實驗參數(shù),給實驗帶來極大的方便,并提高實驗的**性。 
        
    
            詳情介紹:
        
        石墨烯制備爐的主要技術(shù)參數(shù):
溫度范圍:室溫~1050度 
整機功率:2.5 kW 
末端口為:不銹鋼法蘭接口,外置水冷卻 
進樣方式為:手動 
氣體成分有:
Ar:純度99.999%以上,40L,配惰性氣體減壓閥,流量0-1000 sccm; 
H2:純度99.999%,40L,配氫氣減壓閥,流量0-200 sccm; 
CH4:純度99.999%,40L,配減壓閥,流量0-10 sccm   (更大量程可選); 
13CH4:純度99% (1%為12CH4),10L,配專用減壓閥,流量0~10 sccm (同位素選件); 
該系統(tǒng)的溫度、氣流及真空采用計算機控制,其中部分功能也可以采用手動控制。石墨烯制備爐采用計算機實時控制和顯示所有與生長有關(guān)的實驗參數(shù),自動保存實驗參數(shù),給實驗帶來極大的方便,并提高實驗的**性。 
 
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