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                                                            文章詳情
                                                        
                                                        PECVD系統(tǒng)性能指標(biāo)的說(shuō)明
日期:2025-11-03 15:57
            瀏覽次數(shù):1726
        
            摘要:
        
    
           PECVD系統(tǒng)薄膜制備設(shè)備,適合于半導(dǎo)體、集成電路、光電科學(xué)、電子信息、納米技術(shù)等領(lǐng)域研究,可以在各種尺寸和形狀的基底上沉積可以多種薄膜。
 
    
    
PECVD系統(tǒng)性能指標(biāo):
    1、PECVD是前段預(yù)熱雙溫區(qū)滑軌結(jié)構(gòu),集真空系統(tǒng)、供氣流量系統(tǒng)、射頻源、自動(dòng)推進(jìn)、加熱于一體,并將所有控制集成于觸屏操控界面之中。
    2、PECVD電源范圍:0~500 W可調(diào),溫度范圍:100~1200 ℃可調(diào),濺射區(qū)域長(zhǎng)度:2000 mm。
    3、適用范圍:金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復(fù)合薄膜,連續(xù)生長(zhǎng)各種薄膜等。
    4、雙溫區(qū)滑軌爐:帶有預(yù)熱爐,*高溫度為1100 ℃;
    5、等離子射頻發(fā)生器:輸出功率5~500 W可調(diào);射頻電源頻率13.56 MHz;冷卻方式為空氣冷卻;輸入電源:208~240 VAC,50/60 Hz;
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