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    本設備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設置帶擋板的石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄;腔體設計真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。
	
磁控濺射鍍膜儀技術參數:
| 
				 產品名稱  | 
			
				 桌面型不銹鋼腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀  | 
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				 產品型號  | 
			
				 CY-MSZ194-I-DC-SS  | 
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				 樣品臺  | 
			
				 外形尺寸  | 
			
				 φ100mm  | 
		
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				 加熱溫度  | 
			
				 ≦500℃  | 
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				 可調轉速  | 
			
				 ≦20rpm  | 
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				 磁控靶槍  | 
			
				 配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm  | 
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				 真空腔體  | 
			
				 腔體尺寸  | 
			
				 φ194mm X 263mm  | 
		
| 
				 觀察窗口  | 
			
				 φ50mm  | 
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				 腔體材料  | 
			
				 304不銹鋼  | 
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				 開啟方式  | 
			
				 上蓋開啟式  | 
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				 真空系統(tǒng)  | 
			
				 前級泵  | 
			
				 低噪音雙極旋片泵  | 
		
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				 分子泵  | 
			
				 低噪音大抽速渦輪分子泵  | 
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				 真空測量  | 
			
				 復合真空計,量程:10-5~105Pa  | 
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				 抽氣接口  | 
			
				 KF16  | 
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				 抽氣接口  | 
			
				 KF40  | 
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				 排氣接口  | 
			
				 KF16  | 
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				 系統(tǒng)真空  | 
			
				 1.0×10-4Pa  | 
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				 供電電源  | 
			
				 AC 220V 50/60Hz  | 
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				 抽氣速率  | 
			
				 分子泵抽速60L/s,前級泵抽速1.1L/s  | 
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				 電源配置  | 
			
				 電源數量  | 
			
				 直流電源一套  | 
		
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				 輸出功率  | 
			
				 直流電源500W  | 
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 其他參數  | 
			
				 供電電壓  | 
			
				 AC220V,50Hz  | 
		
| 
				 整機功率  | 
			
				 2kW  | 
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				 重量  | 
			
				 80kg  | 
		|
| 
				 整機尺寸  | 
			
				 550mm X 450mm X750mm  | 
		|
	
    
    
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            