CY-MSZ210-I I -DCDC-SS桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設(shè)備為實(shí)驗(yàn)室真空PVD鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀
產(chǎn)品型號	CY-MSZ210-I I -DCDC-SS
樣品臺	外形尺寸	φ100mm
	加熱溫度	≦500℃
	可調(diào)轉(zhuǎn)速	≦20rpm
磁控靶槍	配兩支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體	腔體尺寸	φ210mm X260mm
	觀察窗口	全向透明
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)	前級泵	低噪音雙極旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速渦輪分子泵
	真空測量	復(fù)合真空計，量程:10-5~105Pa
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	系統(tǒng)真空	1.0×10-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置	電源數(shù)量	直流電源兩套
	輸出功率	500W
其他參數(shù)	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機(jī)功率	4kW
	整機(jī)尺寸	550mm X 350mm X900mm