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 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
 - 可編程勻膠機(jī)
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 - 靜電紡絲
 - 金剛石切割機(jī)
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 - PECVD氣相沉積系統(tǒng)
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 - 提拉涂膜機(jī)
 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
 - 電子束,激光鍍膜儀
 - CVD氣相沉積系統(tǒng)
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 - 高溫真空爐
 - 氧化鋯燒結(jié)爐
 - 高溫箱式爐
 - 箱式氣氛爐
 - 高溫高壓爐
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 - 區(qū)域提純爐
 - 微波燒結(jié)爐
 - 粉末壓片機(jī)
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 - 真空熱壓機(jī)
 - 培育鉆石
 - 二硫化鉬制備
 - 高性能真空泵
 - 質(zhì)量流量計(jì)
 - 真空法蘭
 - 混料機(jī)設(shè)備
 - UV光固機(jī)
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
 - 電池制備
 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
 - 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
 - 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
 - 其他產(chǎn)品
 
    磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長時(shí)間穩(wěn)定工作。本型號(hào)采用靶下置布局,樣品臺(tái)在上方,與靶面高度可通過程序**可調(diào),并且可旋轉(zhuǎn)加熱,性能優(yōu)異。
技術(shù)參數(shù):
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					 項(xiàng)目  | 
				
					 明細(xì)  | 
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					 產(chǎn)品型號(hào)  | 
				
					 CY-MSH500X-II-DCRF-SS  | 
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					 供電電壓  | 
				
					 AC220V,50Hz  | 
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					 整機(jī)功率  | 
				
					 6KW  | 
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					 極限真空度  | 
				
					 5x10-4Pa  | 
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					 載樣臺(tái)參數(shù)  | 
				
					 尺寸  | 
				
					 150mm  | 
			
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					 高度  | 
				
					 上下70mm**可調(diào)  | 
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					 加熱溫度  | 
				
					 ≤500℃  | 
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					 轉(zhuǎn)速  | 
				
					 1-20rpm  | 
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					 磁控濺射頭參數(shù)  | 
				
					 數(shù)量  | 
				
					 2個(gè)2”磁控濺射頭  | 
			
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					 冷卻方式  | 
				
					 水冷,所需流速10L/min  | 
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					 水冷機(jī)規(guī)格  | 
				
					 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)  | 
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					 真空腔體  | 
				
					 腔體尺寸  | 
				
					 φ500mm X 490mm H  | 
			
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					 腔體材料  | 
				
					 不銹鋼  | 
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					 觀察窗口  | 
				
					 φ100mm  | 
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					 開啟方式  | 
				
					 前開門式  | 
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					 氣體流量控制器  | 
				
					 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM Ar;  | 
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					 真空泵  | 
				
					 配有一套分子泵系統(tǒng),抽速600L/S  | 
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					 膜厚儀  | 
				
					 石英振動(dòng)薄膜測厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ?  | 
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					 濺射電源  | 
				
					 直流電源1臺(tái),500W,適用于制備金屬膜 射頻電源1臺(tái),500W,適用于非金屬鍍膜  | 
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					 操作方式  | 
				
					 CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)  | 
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					 整機(jī)尺寸  | 
				
					 1090mm X 900mm X 1250mm  | 
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					 整機(jī)重量  | 
				
					 350kg  | 
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